4-エテニルフェノールアセテート [モノマー] 4-アセトキシスチレン CAS 2628-16-2
モノマー 4-エテニルフェノール アセテートは、主にポリヒドロキシスチレンの合成に使用されます。 ポリヒドロキシスチレンはフォトレジストの主成分であり、現在 248 nm フォトレジストの主成分を構成しています。;
基礎情報
モデル番号。 | 4-エテニルフェノール酢酸 |
色 | 無色 |
輸送パッケージ | 5kg-ファス、10kg-ファス、25kg-ファス、50kg-ファス |
仕様 | 99.0分 |
商標 | ケムファイン |
起源 | 中国 |
生産能力 | 2000トン/年 |
製品説明
4-エテニルフェノールアセテートモノマーは、主にポリヒドロキシスチレンの合成に使用されます。 ポリヒドロキシスチレンはフォトレジストの主成分であり、現在、主にマイクロエレクトロニクスチップや液晶ディスプレイの分野で使用されている248nmフォトレジスト樹脂の主成分を形成しています。
商品名 | 4-アセトキシスチロール/4-エテニルフェノール酢酸 |
CAS番号 | 2628-16-2 |
分子式 | C10H10O2 |
純度、% | 99.0分 |
見て | 無色の液体 |
クラリティ(10%メタノール溶剤) | クリア |
水、% | 0,2max |
ポリマー、% | 0.5max |
阻害剤 (TBC/MEHQ) | 200-300ppm |
アル | 最大10ppb |
Ca | 最大10ppb |
マグネシウム | 最大10ppb |
銅 | 最大10ppb |
鉄 | 最大10ppb |
すでに | 最大10ppb |
で | 最大10ppb |
亜鉛 | 最大10ppb |
K | 最大10ppb |
ん | 最大10ppb |
Cr | 最大10ppb |
SN | 最大10ppb |
もし | 最大10ppb |
包装 | 25kg/50kg/100kg/200kgドラムまたは顧客の要求 |
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